ASML可以說是全球手機(jī)CPU鍛造者，地球上目前唯一一家能生產(chǎn)5nm工藝EUV光刻機(jī)的廠家!

中芯國(guó)際引進(jìn)EUV極紫外光光刻機(jī)眼看遙遙無期，近日最新消息：或可無視禁令出售僅相隔一代的DUV深紫外光光刻機(jī)——初代7nm便是由它而來，大作擁有：980!855等…

而且DUV價(jià)格相對(duì)EUV還便宜近一半!

DUV：193nm波長(zhǎng)的光刻機(jī)，液浸式一次曝光可以生產(chǎn)45-28nm芯片，

EUV：10nm到124nm波長(zhǎng)的光刻機(jī)，直接生產(chǎn)7nm工藝芯片，未來可攻入5nm和3nm以后的芯片!

兩者相對(duì)之下簡(jiǎn)直是一個(gè)天上一個(gè)地下，為何DUV能夠刻出7nm?

這里所用到的是技術(shù)操作問題，光刻機(jī)是光對(duì)硅片的刻蝕，DUV曝光一次達(dá)28nm，臺(tái)積電實(shí)現(xiàn)多次曝光造出7nm工藝，而次數(shù)的增加也就意味著成本的增高，同時(shí)需要高端人才技術(shù)上的支持!

中芯國(guó)際的14nm FinFET工藝N+1已經(jīng)實(shí)現(xiàn)接近7nm工藝有效降低功耗，性能方面提升較小，要是能使用上與EUV相差僅一代的光刻機(jī)或?qū)⒌玫劫|(zhì)量上更大的提升!

ASML首席執(zhí)行官彼得·韋尼克也證實(shí)了這一消息，他表示：向中國(guó)出口的DUV光刻機(jī)并不受到美國(guó)禁令的影響。

步步為營(yíng)，鍛造工匠精藝!9000之后或?qū)⒁琅f麒麟!你覺得呢?